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数控车床做电梯教程图纸,数控车床做电梯教程图纸大全

2022-01-18 作者 :旋风数控网 围观 : 0次

大家好,今天小编关注到一个比较有意思的话题,就是关于数控车床做电梯教程图纸的问题,于是小编就整理了1个相关介绍数控车床做电梯教程图纸的解答,让我们一起看看吧。

中国目前光刻机处于怎样的水平?

对于光刻机来说,目前世界的老大是荷兰的ASML,而且基本处于垄断地位,高端市场只此一家,于是很大人就想当然的认为,光刻机技术含量太高,别人做不了,只有ASML能做,这种说法有一定的道理,但并非其他国家就做不了,主要没人去做高端市场还是因为没有市场的问题限制了!

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ASML起源于荷兰菲利浦,这公司是家电大企业,曾经一条龙做终端产品、芯片、光刻机,一个完整的产业链。后来慢慢分工,结果芯片做没落了,光刻机却做到了巅峰。光刻机给人的映象就是一台上亿美元,这个看起来很牛,利润空间也很大。如此高利润,为何只有ASML一家独大,其他生产光刻机的企业包括佳能、尼康,中国的上海微电子等,怎么这些就只能涉及低端产业,就没能做出成绩来呢?

其实光刻机这个行业相当的苦,全世界做芯片的也就几十家企业,高端的也就那么几家,光刻机一年的市场也就几十亿美元,客户少,稍不留神没有接到订单或者客户被竞争企业抢走了,面临的很可能就是巨额亏损!ASML能够保持今天的垄断地位,主要还是这家公司采用了一种全新的商业模式,与客户进行了捆绑,英特尔、三星、台积电等都是这家公司的大股东,然后他们当然就买自家的产品了,于是像佳能、尼康等企业一看,高端市场已经没有任何市场了,做出来又卖给谁呢?也就只能放弃了,所以大家都完全放弃了高端光刻机市场,只做中底端。

所以说,光刻机问题是别人技术上做不了吗?未必,是对手没法做,市场已经被人垄断了,做了卖不出去,做了也白做!

但是今天中国面临一个严峻的问题,我们芯片被美国卡了脖子,我国也没有几家芯片封装企业,一下子搞得中兴连芯片都没有了,还闹了一段时间恐慌,虽然之后这样的的限制在我国企业付出很大代价后解除了,但发展自己的芯片产业成为一种必然,尤其是高端芯片!但如果有一天ASML不卖光刻机了呢?

一方面我们有自己的光刻机企业,但走的也是低端路线,实力不强,因为我国芯片本来就是大量进口,而现在我国企业和政府都大量的砸钱,希望在近些年尽快将芯片追上来,能够满足自给自足!而已中国的眼光,尤其是华为,他们不会看不到未来光刻机被卡脖子的一天?我相信这一天一定会来,因此我国恐怕现在已经开始砸钱,在发展芯片的同时,也希望用钱将光刻机一并砸出来,这是很有可能的。

光刻机的壁垒更多的其实不是技术,而是市场的需求,是商业模式的垄断,一旦舍得投入,我相信光刻机也不是难事!就像看20年我国所有的领域都落后,但今天一看,真要去做,基本都成了,甚至比西方做得更好,相信光刻机也是一样!

目前来看,我国自研的光刻机还依然处于制程工艺为90纳米的水准。

这个水准的光刻机,隶属于第四代步进扫描式光刻机,采用的是波长为193纳米的,深紫外光ArF光源,其制程工艺在135纳米-65纳米之间。

与浸没式光刻机相比差半代,与EUV光刻机相比差一代。

国内这型制程工艺在90纳米的光刻机,也就是由上海微电子生产的SSX-600/20型光刻机。

该光刻机采用了四倍缩小物镜,自适应调焦调平技术,六自由度工件台掩膜台技术,可以适应8寸或者12寸的晶圆。

也就是说,目前国内最先进的光刻机,也只能达到90纳米的制程工艺,不过经过多次曝光之后,估计制程工艺还会进一步缩小。

而国际上最先进的,制程工艺最低的,就是ASML集成的EUV光刻机。该光刻机的制程工艺已经达到了7纳米,采用了波长为13.5纳米的EUV光源;镀了近百层钼和硅制成薄膜的反射镜,而薄膜的粗糙度控制在零点几纳米级别;还有运动精度误差控制在1.8纳米的双工件台。以上只是EUV光刻机,最为重要的三大部件。而一整台EUV光刻机是由10万多个零部件,且还要经过工程师上百万次的调试,才可以交付使用。

想象一下10万多个零部件是什么概念。

一般的家用小轿车只有2万多个零部件。

一架波音737NG约有50多万个部件。

可想而知,组装一台光刻机的难度有多大。当然了,不仅仅是组装完成之后就完事了,还对装配的精度要求相当的高。

而要制造出EUV光刻机,就要在光源,反射镜,双工件台这三大技术上取得突破。而这三大件也是,在光刻机中制造难度最大的。只要解决了这三大部件,EUV光刻机剩下的部分就没那么难了。

目前来说,光源,双工件台,反射镜都有企业在研发。只不过,想要达到适合EUV光刻机使用的标准,还有一段要走,对于科学研究来说,万万是急不得的。毕竟ASML生产的EUV光刻机,是集合了美,日,德,英,欧的最尖端科技。仅凭一国,想要将以上的尖端科技全部握在手中的话,那难度有多大是可以想象的。

国内研发双工件台的主要就是华卓精科。

研发光源有科益虹源,福晶科技。

研发反射镜的有奥普光电,国望光学。

研究浸没系统的有启尔机电。

研究光刻胶的有容大感光,南大光电。

以上就是国内正在研究光刻机各种部件的企业,而集成的话有上海微电子。

隔着一代的差距,是需要时间和持续的投入做基础的。也只有等到国内与光刻机制造相关的技术突破后,各种部件的制造才有了突破的希望。

现阶段就是深耕细作的时期,事已至此,抱怨无用,想法赶上,赢得未来。

目前来看,90纳米制程工艺的光刻机,基本上可以满足工业芯片的生产需求,暂时不需要担心。而高端芯片也只是在手机,电脑上使用的比较广泛,对工业,军工的影响不大。完全可以等到国产EUV光刻机完成之后,再发力。

关于国产光刻机目前处于什么水平,网上的各种消息让人搞的有点乱。一边有人说我们的光刻机仍然处于90nm水平,一边又有人说我们的光刻机已经处于5nm水平了,国产光刻机究竟什么水平?

国产光刻机目前什么水平

关于这个90nm和5nm水平,大部分是混淆了两个机器,虽然这两个机器名字只有一字之差,但是它所代表的意义就大不相同。

国产光刻机水平:目前是90nm水平,其它更加先进的仍旧处于实验室阶段,想要实现商用还需要很长一段时间。

2018年时中科院的“超分辨光刻装备研制”通过验收,它的光刻分辨力达到22nm,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10nm级别的芯片。

但是这也是仅仅处于实验室阶段,也就是想要真正的投入商用还是需要很长一段时间。

国产蚀刻机水平:中微半导体做的蚀刻机已经达到了5nm水平,也得到了台积电的相关认证,可以说是非常领先的。

这里大部分人就是混淆了这个光刻机和蚀刻机两个概念,虽然它们只有一字之差,但是意义却大不相同。全球能做顶级蚀刻机的有好几家,而能做最顶级光刻机的只有荷兰的ASML一家。

光刻机和蚀刻机

在芯片生产过程中,光刻机相当于在一块晶圆上复印了一张画的图案(也就是芯片内部电路图的图案)而蚀刻机作用就是把光刻机复印的图案进行雕刻。

相比于光刻机,蚀刻机的地位并不是非常的重要,因为全球范围能做顶级蚀刻机的有好几家厂商,能做顶级光刻机的只有ASML一家独大。佳能和尼康也可以做光刻机,但是与ASML根本不是一个级别的。

可以说在芯片生产过程中,光刻机相当于一个人体的头部起着控制作用,而蚀刻机只能说是人体的四肢。脑部有选择性,它可以不用你这个四肢,也就是换用其它家的顶级蚀刻机,而光刻机就独此一家。

能不能拆解复制光刻机

笔者前段时间在刷短视频时,刷到了三星西安工厂订购的ASML光刻机在西安国际机场进行卸货,下面都在评论说直接给它扣下来用于拆解复制。

其实这是一个非常愚蠢至极想法,它不仅仅影响的我们国家的国际影响,也让其它国家不再敢和我们进行合作。

并且三星西安工厂主要是生产内存颗粒,它用的光刻机并不是荷兰ASML生产的顶级光刻机,扣下来也做不了顶级芯片。也可以这么去说,就算你把它扣下来,虽然机器在我们手上,但是和废铁并没有什么两样。

这种机器都安装了各种保护,高精度的电子陀螺仪,一旦机器出现移动以及有拆解动作就会远程自动锁机。想要解锁只能去找厂商人员进行解决,也需要重新调试。

这一点在一些高端进口机床上也是如此,机器想要移动位置,必须提前进行报备,由厂家工程师进行解决。如果自己未经厂商允许移动了位置,只会是被锁机。

结语

光刻机所需要的核心部件都是全球顶级厂商提供,这些部件很多我们国内水平是达不到的。例如光刻机的镜头,是由德国的蔡司公司提供,需要经过几十年甚至上百年的技术积累沉淀。

而我们在光刻机领域仍需要进行努力,加大科研投入,重视人才,集体合心,仍旧会取得重要突破。

这里也要说一下,并不是90nm光刻机就什么也用不了。很多芯片仍旧需要它来进行加工,例如手机上的蓝牙芯片、射频芯片、功放芯片、电源管理芯片等,以及日常所用的路由器芯片、各种电器驱动芯片等需要用到这种光刻机。

以上就是笔者对于本问题解答,如果您认同我的解答,欢迎您的关注!

到此,以上就是小编对于数控车床做电梯教程图纸的问题就介绍到这了,希望介绍关于数控车床做电梯教程图纸的1点解答对大家有用。

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